英特尔宣布世界首台商用 High NA EUV 光刻机完成组装，计划明年投入研发使用

感谢本站网友▲图源英特尔新闻稿这台光刻机型号TWINSCANEXE:5000，为ASML的首代HighNAEUV光刻机，价值约3.5亿美元（本站备注：当前约25.38亿元人民币）。就在不久前ASML宣布其在荷兰埃因霍温总部的另一台HighNAEUV光刻机英特尔表示High-NAEUV光刻机可拥有1.7倍于目前0.33NAEUV光刻机的一维密度，这意味着在二维尺度上可实现190%的密度提升。采用High-NAEUV光刻机，可以更精细的尺度制造生产半导体，继续推动摩尔定律。英特尔计划从2025年的18A新技术验证节点开始，在先进芯片开发和制造中同时使用0.55NA和0.33NA的EUV光刻机。此外英特尔还计划购买下一代TWINSCANEXE:5200B光刻机，新机型晶圆吞吐量超过每小时200片。不过根据广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，本站所有文章均包含本声明。